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納米精度3D打印 無掩膜紫外光刻 超快激光刻蝕
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無掩膜紫外光刻設備
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?掩膜紫外光刻設備,?于晶圓級2D/2.5D微納結構加? 設備無需掩膜,可實現納米級精度加工,拼接誤差極小,自主研發的超高速加工方式,具備高直寫速度、高分辨率等特點。集成化設計,全自動控制,操作簡便,適用高達12英寸的基材,適合快速加工、建?;蛐∨可a,便于工業應用。廣泛應用于微流控、半導體、生物技術和微電子等領域。
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